Mumetal Permalloy 80 (1J79) Бар / ЛИСТ / паласа
Агульныя гандлёвыя назвы: Mumetal, UNS N14080, HY-MU80, Permalloy 80, 1J79, 79НМ,
Mumetal / Permalloy 80 - гэта вельмі магнітны сплаў нікель-малібдэн-жалеза. з прыблізна 80% нікеля і 15% жалеза і 5% малібдэна. Гэта карысна ў якасці матэрыялу магнітаправода ў электрычным і электронным абсталяванні. Permalloy 80 забяспечвае высокую пачатковую і максімальную пранікальнасць з нізкай прымусовай сілай, нізкімі стратамі пры гістарэзісе, нізкімі стратамі на віхравы ток і нізкай магнітастрыкцыяй, што мае вырашальнае значэнне для прамысловага прымянення.
Праграмы:
• ламінаванне трансфарматараў • Рэле • Запісвальныя галоўкі • Адхіляльныя і факусуючыя хомы • Узмацняльнікі • Гучнагаварыцелі • Экранаванне.
|
Ацэнка |
Вялікабрытанія |
Германія |
ЗША |
Расія |
Стандартны |
|
Муметал (1J79) |
Муметал |
/ |
Пермалой 80 HY-MU80 |
79HM |
ASTM A753-78 GBn 198-1988 |
Муметал Хімічны склад
| Ацэнка |
Хімічны склад (%) |
||||||||
| C | P | S | Cu | Мн | Si | Ni | Мо | Fe | |
| Муметал 1J79 | ≤ | ||||||||
| 0,03 | 0,020 | 0,020 | 0,20 | 0,60 ~ 1,1 | 0,30 ~ 0,50 | 78,5 ~ 80,0 | 3,80 ~ 4,10 | Баланс | |
Муметал Фізічныя ўласцівасці
|
Ацэнка |
Супраціў (мкОм • м) |
Шчыльнасць (г / см3) |
Кропка Кюры ° C |
канстанта магнітастрыкцыі насычэння (× 10-2) |
Трываласць на расцяжэнне / МПа |
Сіла Еліда / МПа |
||
|
Муметал 1J79 |
Неадпалены |
Адпалена |
Неадпалены |
Адпалена |
||||
|
0,40 |
8.20 |
980 |
2 |
1030 |
560 |
980 |
150 |
|
Лінейнае пашырэнне Mumetal Avager
|
Ацэнка |
Каэфіцыент лінейнага пашырэння пры розных тэмпературах (x 10-6 / K) |
||||||||
|
20～100℃ |
20～ 200℃ |
20～ 300℃ |
20～400℃ |
20～ 500℃ |
20～ 600℃ |
20～ 700℃ |
20～ 800℃ |
20～ 900℃ |
|
|
Муметал 1J79 |
10,3-10,8 |
10.9～ 11.2 |
11.4～ 12.9 |
11.9～ 12.5 |
12.3～ 13.2 |
12.7～ 13.4 |
13.1～ 13.6 |
13.4～ 13.6 |
13.2～ 13.7 |
Матэматычны экраніруючы патэнцыял
Пермалой мае надзвычай высокую пранікальнасць і намінальную прымусовую сілу, што робіць яго прыдатным матэрыялам для экранавання. Для дасягнення жаданых экраніруючых уласцівасцей HyMu 80 адпальваюць да 1900oF або 1040oC пасля працэсаў фармавання. Адпал пры павышаных тэмпературах павышае пранікальнасць і экрануючыя ўласцівасці.
